誤區(qū)一 技術方案交待不清楚
很多人提交的專利申請文件非常簡單,有的甚至只有幾句話,技術方案完全沒有交待清楚,這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。
在要求發(fā)明人提供更多的技術方案時,他們會以技術保密為由回避。
這些發(fā)明人其實就是沒有把握好保密與公開的度。
他們過度地要求保密,害怕多透露一點技術信息,而恰恰是這種“過度”忽視了技術方案交待不清楚,公開不充分的問題。
誤區(qū)二 專利申請前不做任何檢索
有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索,對技術方案的新穎性如何不確定。
甚至根本不知道其技術方案有沒有公開過或公開使用過,這也是一個非常普遍的現(xiàn)象。
全世界范圍內的任何文獻都可影響技術方案的新穎性。但在使用方面,只有國內的使用才影響技術方案的新穎性。
誤區(qū)三 先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定,而沒有想到先申請專利保護。
由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內容,使專利申請失去新穎性而得不到保護。
誤區(qū)四 對專利缺乏有效的管理
有些企業(yè)申請了很多專利,但無專人管理。
專利文件之間有的互相沖突,有的已無市場價值還在交納年費。
有的專利權已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解,不能及時提起訴訟。
誤區(qū)五 缺乏長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃
有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要,可以避免時間和精力的浪費。
一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利,結果導致授權率低,并產生大量的垃圾專利,浪費時間和精力。
一個企業(yè)應該對自己行業(yè)內的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認識。
從而找到技術突破口,排除他人專利障礙,確立自己的專利優(yōu)勢,贏得市場競爭。
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